杭州泰林型總有機(jī)碳（TOC）分析儀HTY-DI1000C

市場(chǎng)價(jià)：￥電議
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品　牌：泰林設(shè)備【查看更多】
參　數(shù)：
基本尺寸：390mm×194mm×187mm
環(huán)境溫度：10~40℃ 溫度變化在±5℃/d以?xún)?nèi)
內(nèi)部樣品流速：0.5 mL/min
相對(duì)濕度：≤ 85%
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詳細(xì)介紹

HTY-DI1000C 總有機(jī)碳（TOC）分析儀是杭州泰林生物技術(shù)設(shè)備有限公司獨(dú)立研制的專(zhuān)利產(chǎn)品，用于測(cè)定水樣中總有機(jī)碳的濃度，具有高靈敏度和精確度。
HTY-DI1000C TOC分析儀的工作原理是：樣品中的有機(jī)物在紫外線(xiàn)（UV）的作用下被氧化成二氧化碳，二氧化碳的測(cè)定采用了電導(dǎo)率檢測(cè)技術(shù)。通過(guò)測(cè)定未經(jīng)氧化的樣品的總無(wú)機(jī)碳（TIC或IC）濃度，和經(jīng)氧化后得到的樣品的總碳（TC）濃度來(lái)計(jì)算總有機(jī)碳濃度?？傆袡C(jī)碳濃度即總碳濃度與總無(wú)機(jī)碳濃度之間的差值：TOC = TC–TIC。
HTY-DI1000C TOC分析儀可以檢測(cè)TOC濃度從0.001mg/L到1.000mg/L的水樣。本產(chǎn)品操作簡(jiǎn)單，維護(hù)費(fèi)用低，無(wú)需添加化學(xué)試劑，操作人員無(wú)需特殊培訓(xùn)或?qū)I(yè)化學(xué)知識(shí)。

特點(diǎn)：

1.采用紫外光催化氧化法，不需催化劑和載氣；
2.自主研發(fā)設(shè)計(jì)了二氧化鈦催化涂層螺旋管，特別適用于制藥用水測(cè)定有機(jī)碳含量；
3.具有超出設(shè)定上限值時(shí)蜂鳴報(bào)警功能，保護(hù)儀器，防止誤操作；
4.可選配在線(xiàn)檢測(cè)裝置(在線(xiàn)與離線(xiàn)模式可自由切換)；
5.可選配自動(dòng)取樣裝置；
6.符合CP2010版“總有機(jī)碳檢查法”及USP32-643章系統(tǒng)適應(yīng)性要求；
7.不需要添加酸試劑、氧化劑和任何氣體，無(wú)需附加日常維護(hù)費(fèi)。
8.操作簡(jiǎn)單、快捷、可靠。使用者無(wú)需專(zhuān)業(yè)知識(shí)和專(zhuān)門(mén)培訓(xùn)。
9.針對(duì)TOC含量1.000mg/L以下的去離子水的檢測(cè)而設(shè)計(jì)。
10.超大的存儲(chǔ)器能自動(dòng)存儲(chǔ)最近12個(gè)月連續(xù)檢測(cè)的數(shù)據(jù)，可以查詢(xún)?nèi)我庖惶斓臋z測(cè)記錄，并能打印檢測(cè)結(jié)果。
11.檢測(cè)速度快，一次檢測(cè)分析時(shí)間不超過(guò)4分鐘。
12.體積小、重量輕、耗能少、攜帶方便。
13.具有自動(dòng)的上限報(bào)警輸出，超出設(shè)定的檢測(cè)結(jié)果時(shí)可以提醒操作者。
14.易于按照USP <643>和EP <2.2.44>以及中國(guó)藥典附錄Ⅷ R所要求的TOC檢測(cè)方法

參數(shù)：

電源：220V±22V
電源頻率：50Hz±1Hz
額定功率：100W
基本尺寸：390mm×194mm×187mm
檢測(cè)極限：0.001mg/L
最大允許誤差：±5%
檢測(cè)范圍：0.001mg/L～1.000mg/L
分析時(shí)間：4min
響應(yīng)時(shí)間：15 min以?xún)?nèi)
樣品溫度：1~95℃
環(huán)境溫度：10~40℃ 溫度變化在±5℃/d以?xún)?nèi)
內(nèi)部樣品流速：0.5 mL/min
相對(duì)濕度：≤ 85%
重復(fù)性誤差：≤ 3%
零點(diǎn)漂移：±5%

應(yīng)用領(lǐng)域：

該儀器可用于檢測(cè)制藥工業(yè)中純化水、注射用水和去離子水中總有機(jī)碳的濃度；也可用于半導(dǎo)體行業(yè)、電廠(chǎng)、科研單位、實(shí)驗(yàn)室等超純水TOC的檢測(cè)，
在制藥領(lǐng)域和生物化學(xué)領(lǐng)域清潔驗(yàn)證過(guò)程中，可用于驗(yàn)證清潔效果。
該儀器具有在線(xiàn)檢測(cè)功能（在線(xiàn)檢測(cè)裝置需另選配），可以在線(xiàn)監(jiān)測(cè)制藥工業(yè)的制水系統(tǒng)、半導(dǎo)體工業(yè)的超純水制備系統(tǒng)和晶片工藝過(guò)程、電廠(chǎng)去離子水制備過(guò)程等。

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